文 | 孙永杰日前，工信部印发的《首台 ( 套 ) 重大技术装备推广应用指导目录 ( 2024 年版 ) 》（以下简称 " 目录 "）中显示，中国已攻克氟化氩光刻机，其中该目录中，公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源 193 纳米，分辨率 ≤65nm，套刻 ≤8nm 指标引发了业内的关注...